HOME

企業情報

事業内容

IR情報

NEWS

採用情報

お問い合わせ

Nano Materialナノマテリアル

シリコン/シリコン化合物

金属系シリコン(ケイ素:Si)

金属系シリコン(ケイ素:Si)
形態: 塊(Lump)/粒状(Granule)/粉末(Powder)
CAS番号: 7440-21-3
製造方法: 下表、標準スペック参照
カスタマイズ: 塊(Lump):50mm-200mm程度
粒状(Granule):1mm-5mm程度

金属冶金方ポリシリコン(ケイ素:Si)

金属冶金方ポリシリコン(ケイ素:Si)
形態: 塊(Lump)/粒状(Granule)/粉末(Powder)
CAS番号: 7440-21-3
製造方法: 標準スペック参照
カスタマイズ: 塊(Lump):50mm-200mm程度
粒状(Granule):1mm-5mm程度

シリコン粉末（ケイ素:Si）

シリコン粉末（ケイ素:Si）
形態: 微粉末～粉末（Fine Powder ～ Powder）
CAS番号: 7440-21-3
製造方法: 物乾式ジェットミル
Si純度: 2N～4N

カスタマイズ可能範囲:

・材料: 金属冶金法ポリシリコン（3N/4N）
金属シリコン（2N/3N）
Ｂ／Ｐドープインゴット（4N）
・化学成分: 個別の金属不純物濃度（上限値指定）
ドーピング元素（B/Ga/P/As等）濃度（上限値指定）
酸素濃度（管理上限濃度協議）
・粒子径: 下記標準スペックを基準として、D50指定（D10,D90指定協議）

対応可能な標準スペック

区分 Si純度 2N 3N 4N
粒子径 Si≧99.0% Si≧99.9% Si≧99.99%
微粉末 300nm(0.3µm) 〇 △
500nm(0.5µm) 〇 △
＜1.0µm 〇 △
粉末 1.0µm 〇 〇 〇
2.0µm 〇 〇 〇
3.0µm 〇 〇 〇
5.0µm 〇 〇 〇
10.0µm 〇 〇 〇
20.0µm 〇 〇 〇
30.0µm 〇 〇 〇
50.0µm 〇 〇 〇
100.0µm 〇 〇 〇
200.0µm 〇 〇 〇
300.0µm 〇 〇 〇
500.0µm 〇 〇 〇
＜1000.0µm 〇 〇 〇

シリコンナノ超微粉末（ケイ素:Si）

シリコンナノ超微粉末（ケイ素:Si）
形態: 超微粉末
CAS番号: 7440-21-3
製造方法: 物理気相合成
(Physical Vapor Deposition : PVD)

カスタマイズ可能範囲:

Si純度・不純物濃度・酸素濃度・結晶構造・粒子サイズ・粒子形状等。

対応可能な標準スペック

区分 Si純度 2N
粒子径 Si≧99.0%
超微粉末 50nm(0.05µm) 〇
100nm(0.1µm) 〇

シリコンスラッジ乾燥品（ケイ素:Si）

シリコンスラッジ乾燥品（ケイ素:Si）
形態: 微粉末の凝集品
CAS番号: 7440-21-3
製造方法: 太陽電池用ウエハーの切削屑を水洗
沈殿させ、フイルタープレス脱水
陰干し乾燥

Siスラッジ乾燥品の特徴

シリコンウエハー切削工程から排出されるSiスラッジを、含水率20%程度までに乾燥させたSiスラッジの2次凝集品です。
高純度シリコンウエハーの切削物であるため、元々、不純物濃度は低く、切削工程中で金属不純物の混入が有りますが、Si純度は99%以上（C/Oを除く）を維持しています。
ボールミル等で、簡単に解砕できます。

ナノ級 高純度 Siスラッジ精製品

ナノ級 高純度 Siスラッジ精製品
ナノ級 高純度 Siスラッジ精製品
形態: 微粉末
CAS番号: 7440-21-3
製造方法: 太陽電池用ウエハーの切削屑を水洗
沈殿させ、フイルタープレス脱水
陰干し乾燥

Siスラッジ精製品の特徴

シリコンウエハー切削工程から排出されるSiスラッジを、洗浄・乾燥・粉砕・分級したリチウムイオン電池負極用のSi粉末です。
高純度シリコンウエハーの切削物であるため、元々、不純物濃度は極めて低く、切削工程中で金属不純物の混入が有りますが、Si純度は３N以上（C/Oを除く）の水準です。
乾燥状態でD50=0.584µｍの粒子径を達成していますが、結晶がフレーク状に重なっているため、湿式ボールミル等により追加粉砕すれば短時間で0.1µm(100nm)レベルへの粉砕が可能です。

一酸化ケイ素（SiO）

一酸化ケイ素（SiO）
一酸化ケイ素（SiO）
一酸化ケイ素（SiO）
形態: 塊(Lump)/粒状(Granule)/粉末(Powder)
CAS番号: 10097-28-6
製造方法: 結晶化学気相成長法
（CVD: chemical vapor deposition）
粉砕方法: 乾式ジェットミル・乾式ビーズミル

カスタマイズ可能範囲:

・粒子径： 塊状(Lump)： 50mm-200mm程度
粒状(Granule)：1mm-  5mm程度
粉末(Powder)：1µｍ-100µｍ程度

二酸化ケイ素(SiO₂)

供給可能製品リスト

日本語名称 英語名称 CAS番号
結晶性天然シリカ（石英） Crystalline Natural Silica 14808-60-7
結晶性合成シリカ（石英） Crystalline Synthetic Silica
天然溶融石英ガラス Fused Quartz 60676-86-0
合成溶融石英ガラス Synthetic Fused Silica
乾式シリカ Fumed Silica 112945-52-5
シリカフューム Silica Fume 69012-64-2
湿式シリカ（沈降法シリカ） Precipitated Silica 112926-00-8
シリカゲル Silica Gel
コロイダルシリカ Colloidal Silica 7631-86-9
（シリカ総称として）
メソポーラスシリカ Mesoporous Silica

窒化ケイ素（Si₃N₄）

窒化ケイ素（Si₃N₄）
窒化ケイ素（Si₃N₄）
形態: 粉末（Powder）
CAS番号: 12033-89-5
製造方法: 直接窒化法

カスタマイズ可能範囲:

・粒子径: D50=1µｍ-30µｍ程度

製品事例

■ α相/β相 窒化ケイ素（Si₃N₄）粉末

Si₃N₄純度: Si₃N₄≧ 99.9%
α/β化率: α相 > 90.0%
β相 > 99.0%
粒子径: D50=1µm～30µm
ミクロンスケールで、粒度カスタマイズに対応
窒化ケイ素（Si₃N₄）

※在庫によって納品までにお時間を頂くことや、仕様によってはご期待に沿えない可能性がございます。
　まずはお問い合わせ頂き、ご相談させて下さい。
※本HPに掲載されている測定結果などは、保証する値ではございません。ご了承ください。