| 形態: | 塊(Lump)/粒状(Granule)/粉末(Powder) |
|---|---|
| CAS番号: | 7440-21-3 |
| 製造方法: | 下表、標準スペック参照 |
| カスタマイズ: | 塊(Lump):50mm-200mm程度 粒状(Granule):1mm-5mm程度 |
| 形態: | 塊(Lump)/粒状(Granule)/粉末(Powder) |
|---|---|
| CAS番号: | 7440-21-3 |
| 製造方法: | 標準スペック参照 |
| カスタマイズ: | 塊(Lump):50mm-200mm程度 粒状(Granule):1mm-5mm程度 |
| 形態: | 微粉末～粉末（Fine Powder ～ Powder） |
|---|---|
| CAS番号: | 7440-21-3 |
| 製造方法: | 物乾式ジェットミル |
| Si純度: | 2N～4N |
カスタマイズ可能範囲:
| ・材料: | 金属冶金法ポリシリコン（3N/4N） 金属シリコン（2N/3N） Ｂ／Ｐドープインゴット（4N） |
|---|---|
| ・化学成分: | 個別の金属不純物濃度（上限値指定） ドーピング元素（B/Ga/P/As等）濃度（上限値指定） 酸素濃度（管理上限濃度協議） |
| ・粒子径: | 下記標準スペックを基準として、D50指定（D10,D90指定協議） |
対応可能な標準スペック
| 区分 | Si純度 | 2N | 3N | 4N |
| 粒子径 | Si≧99.0% | Si≧99.9% | Si≧99.99% | |
| 微粉末 | 300nm(0.3µm) | 〇 | △ | |
| 500nm(0.5µm) | 〇 | △ | ||
| ＜1.0µm | 〇 | △ | ||
| 粉末 | 1.0µm | 〇 | 〇 | 〇 |
| 2.0µm | 〇 | 〇 | 〇 | |
| 3.0µm | 〇 | 〇 | 〇 | |
| 5.0µm | 〇 | 〇 | 〇 | |
| 10.0µm | 〇 | 〇 | 〇 | |
| 20.0µm | 〇 | 〇 | 〇 | |
| 30.0µm | 〇 | 〇 | 〇 | |
| 50.0µm | 〇 | 〇 | 〇 | |
| 100.0µm | 〇 | 〇 | 〇 | |
| 200.0µm | 〇 | 〇 | 〇 | |
| 300.0µm | 〇 | 〇 | 〇 | |
| 500.0µm | 〇 | 〇 | 〇 | |
| ＜1000.0µm | 〇 | 〇 | 〇 |
| 形態: | 超微粉末 |
|---|---|
| CAS番号: | 7440-21-3 |
| 製造方法: | 物理気相合成 (Physical Vapor Deposition : PVD) |
カスタマイズ可能範囲:
| Si純度・不純物濃度・酸素濃度・結晶構造・粒子サイズ・粒子形状等。 |
対応可能な標準スペック
| 区分 | Si純度 | 2N |
| 粒子径 | Si≧99.0% | |
| 超微粉末 | 50nm(0.05µm) | 〇 |
| 100nm(0.1µm) | 〇 |
| 形態: | 微粉末の凝集品 |
|---|---|
| CAS番号: | 7440-21-3 |
| 製造方法: | 太陽電池用ウエハーの切削屑を水洗 沈殿させ、フイルタープレス脱水 陰干し乾燥 |
Siスラッジ乾燥品の特徴
シリコンウエハー切削工程から排出されるSiスラッジを、含水率20%程度までに乾燥させたSiスラッジの2次凝集品です。
高純度シリコンウエハーの切削物であるため、元々、不純物濃度は低く、切削工程中で金属不純物の混入が有りますが、Si純度は99%以上（C/Oを除く）を維持しています。
ボールミル等で、簡単に解砕できます。
ナノ級 高純度 Siスラッジ精製品
| 形態: | 微粉末 |
|---|---|
| CAS番号: | 7440-21-3 |
| 製造方法: | 太陽電池用ウエハーの切削屑を水洗 沈殿させ、フイルタープレス脱水 陰干し乾燥 |
Siスラッジ精製品の特徴
シリコンウエハー切削工程から排出されるSiスラッジを、洗浄・乾燥・粉砕・分級したリチウムイオン電池負極用のSi粉末です。
高純度シリコンウエハーの切削物であるため、元々、不純物濃度は極めて低く、切削工程中で金属不純物の混入が有りますが、Si純度は３N以上（C/Oを除く）の水準です。
乾燥状態でD50=0.584µｍの粒子径を達成していますが、結晶がフレーク状に重なっているため、湿式ボールミル等により追加粉砕すれば短時間で0.1µm(100nm)レベルへの粉砕が可能です。
| 形態: | 塊(Lump)/粒状(Granule)/粉末(Powder) |
|---|---|
| CAS番号: | 10097-28-6 |
| 製造方法: | 結晶化学気相成長法 （CVD: chemical vapor deposition） |
| 粉砕方法: | 乾式ジェットミル・乾式ビーズミル |
カスタマイズ可能範囲:
| ・粒子径： | 塊状(Lump)： 50mm-200mm程度 粒状(Granule)：1mm- 5mm程度 粉末(Powder)：1µｍ-100µｍ程度 |
|---|
供給可能製品リスト
| 日本語名称 | 英語名称 | CAS番号 |
| 結晶性天然シリカ（石英） | Crystalline Natural Silica | 14808-60-7 |
| 結晶性合成シリカ（石英） | Crystalline Synthetic Silica | |
| 天然溶融石英ガラス | Fused Quartz | 60676-86-0 |
| 合成溶融石英ガラス | Synthetic Fused Silica | |
| 乾式シリカ | Fumed Silica | 112945-52-5 |
| シリカフューム | Silica Fume | 69012-64-2 |
| 湿式シリカ（沈降法シリカ） | Precipitated Silica | 112926-00-8 |
| シリカゲル | Silica Gel | |
| コロイダルシリカ | Colloidal Silica | 7631-86-9 （シリカ総称として） |
| メソポーラスシリカ | Mesoporous Silica |
| 形態: | 粉末（Powder） |
|---|---|
| CAS番号: | 12033-89-5 |
| 製造方法: | 直接窒化法 |
カスタマイズ可能範囲:
| ・粒子径: | D50=1µｍ-30µｍ程度 |
|---|
製品事例
■ α相/β相 窒化ケイ素（Si₃N₄）粉末
| Si₃N₄純度: | Si₃N₄≧ 99.9% |
|---|---|
| α/β化率: | α相 > 90.0% β相 > 99.0% |
| 粒子径: | D50=1µm～30µm ミクロンスケールで、粒度カスタマイズに対応 |
※在庫によって納品までにお時間を頂くことや、仕様によってはご期待に沿えない可能性がございます。
まずはお問い合わせ頂き、ご相談させて下さい。
※本HPに掲載されている測定結果などは、保証する値ではございません。ご了承ください。